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中文名称：微束分析 分析电子显微术 金属薄晶体试样中位错密度的测定方法
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英文名称：Microbeam analysis. Analytical electron microscopy. Measurement of the dislocation density in thin metals
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原文名称：
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中标分类：G04
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ICS分类：71.040.50
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标准分类编号：CN
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页数：25
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发布日期：2023-09-07
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实施日期：2024-04-01
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作废日期：
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被替代标准：
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代替标准序号：
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引用标准：GB/T 18907;GB/T 20724;GB/T 40300
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采用标准化：
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补充修订：
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标引依据：国家标准公告2023年第9号
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标准摘要：本文件规定了利用透射电子显微镜（TEM）测量金属薄晶体中位错密度的设备、试样、测定方法、数据处理、测定结果的不确定度和试验报告。本文件适用于测定晶粒内不高于 1X10”m的位错密度。也适用于测量几十纳米至几百纳米厚度金属薄晶体试样中单个晶粒内的位错密度。
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